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工程师讲解广绿半导体行业废气处理

发布日期:2021-07-15 13:34:00 人气:76

工业中使用的清洗剂 、显影剂 、光刻胶 、蚀刻液等溶剂中含有大量的有机化合物 。在这个过程中 ,这些有机溶剂大部分挥发为废气 ,这类气体的排放一般采用吸附法 、焚烧法或两者结合的方法 。

半导体工业中使用的清洗剂 、显影剂 、光刻胶 、蚀刻液等溶剂中含有大量的有机化合物 。在这个过程中 ,这些有机溶剂大部分挥发为废气 ,这类气体的排放一般采用吸附法 、焚烧法或两者结合的方法 。62caa0615256ecdd7cae23e39baa4382_1583726925527764.jpg目前 ,这类气体的排放一般采用吸附法 、焚烧法或两者结合的方法 。吸附是利用多孔固体吸附剂对混合气体进行处理 ,使其中的一种或多种组分能够吸附在固体表面 ,达到分离的目的 。该吸附剂选择性高 ,能分离其它工艺难以分离的混合物 ,能有效去除(或回收)低浓度有害物质 ,净化效率高 ,设备简单 ,操作方便 ,可实现自动控制 。

广绿半导体行业废气处理

但固体吸附剂吸附容量小 ,需要大量吸附剂 ,设备庞大 ,吸附后需要再生处理 ,这是吸附处理的主要缺点 。从半导体生产现场挥发出的有机废气经就地排气罩收集后 ,经管道送至吸附净化系统 。一般用活性炭作吸附剂 。由于活性炭是一种非极性吸附剂 ,其对废气中水汽的敏感性不高 ,价格低廉 。焚烧法也广泛应用于半导体工业的各种有机废气处理 ,有机物通过热氧化转化为二氧化碳和水 。同时 ,焚烧也是处理流量和浓度稳定的废气的好方法 。在热氧化过程中 ,有机废气被加热 ,气相有机物被氧化 。为了节省燃料 ,通常采用换热器回收焚烧产生的热量 ,对进口燃气进行预热 。这种方法通常用于处理大流量 、低浓度的气体 。由于半导体工业中的废气焚烧产生二氧化硅 ,二氧化硅钝化催化剂 ,接触氧化在半导体工业中应用较少 。

一些半导体工厂也使用旋转浓缩系统来收集有机废气 ,如沸石浓缩轮 。由于半导体工艺中有机废气排放量大(通常大于11039m3h) ,浓度低(通常小于25ppmv) ,采用其它处理技术难以达到满意的处理效果 。沸石浓缩轮采用内有吸附材料的旋转轮 ,吸附材料部分暴露在废气流中 。转轮吸收废气中的挥发性污染物 ,并用蒸汽或热将其解吸 。解吸气流中收集了高浓度的挥发物 ,低浓度和高浓度的气流可以很好地氧化 。旋转浓缩系统在半导体工业中的一个缺点是对甲醇的亲和性差 ,去除率只有40-60% 。

总之 ,在废气处理方面 ,半导体行业的酸碱废气一般采用相应的碱吸收和酸吸收处理 。工艺方法非常成熟 。只要对相关工艺参数进行适当优化 ,就能满足本标准的要求 ,对有机废气的处理也需要引起重视 。目前 ,有机废气的处理工艺有吸附 、吸附 、直接燃烧 、催化燃烧 、冷凝等 ,吸附法采用活性炭直接吸附 ,净化效果好 ,但操作成本高 ;吸附法适用于低温 ,中高浓度废气 ;直接燃烧法适用于高浓度 、小风量废气处理 ;冷凝法适用于组分相单一 、高浓度 ,对有机废气有一定回收价值 。对于半导体工业中浓度低 、风量大 、成分复杂的有机废气 ,吸附法 、吸附法 、燃烧法和冷凝法不适用 ,吸附催化燃烧法更适用 。目前 ,省内一些大型半导体企业已采用沸石转轮进行浓缩燃烧 。该方法适用于大风量 、低浓度 、常温的有机废气处理 。净化效率达90%以上 ,浓缩比为20:1 。运行成本低 ,设备处理风量大 ,占地面积小 ,不产生二次污染 ,污染物可连续脱附处理 。根据企业实际运行情况 ,有机废气进气浓度大于200mgm3时 ,处理效率达到95% ,小于200mgm3时 ,处理后浓度控制在20mgm3 ,可确保废气达标排放 。

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